紫外UV臭氧清洗機的清洗是一個完全干燥的過程。而紫外臭氧清洗機內會配備臭氧清除裝置，廢氣臭氧在系統內分解，不會造成清潔室內的臭氧含量過高從而產生危害。紫外臭氧清洗機也可配置成連續加載的清洗線，并可與DI水沖洗系統耦合，徹底清除表面的顆粒。

紫外UV臭氧清洗機的工作原理，紫外線(UV)燈照射分為兩種波長(185和254 nm)。每個波長對化學反應都有不同的作用。185nm紫外線將氧分子O2解離成三聯體原子氧O(3P)。三重原子氧O(3P)與氧分子氧O2結合生成臭氧O3。

另一方面，254納米紫外線分解臭氧O3，形成分子氧O2和單線態原子氧O(1D)。單線態原子氧(1D)具有較強的氧化能力，與基體表面發生反應。在這個反應中，表面被氧化在無機基板上，如硅片。在有機材料中，分子的鏈斷裂發生，有機殘留物污染物作為揮發性副產物分子如CO2、H2O和O2被輕易地去除，從而能夠有效地清除無機基材表面的有機污染物。

紫外UV臭氧清洗機應用范圍較廣，在材料研究和器件制造等很多領域都有應用。可以用于硅片和塑料包裝的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工藝之前對III-V復合半導體晶圓片(如GaAs和InP)進行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；適用于各類材質表面的有機污染物清洗。

紫外UV臭氧清洗機的特點：

高強度網格燈

不銹鋼外殼

實惠

數字定時器，提供簡單、可重復的結果

不銹鋼托盤，帶可選橡膠墊

高度可調托盤，適用于高達 1 英寸/25 毫米高的基材

自動清潔并提高涂層附著力

介質入口端口

排氣口，帶可選的臭氧殺流器和鼓風機

紫外UV臭氧清洗機的常見應用：

紫外線固化

表面圖案化

臭氧蝕刻

顯微鏡載玻片

清潔鏡片和光學元件

薄膜沉積的制備

AFM探頭清潔/銳化

改善表面潤濕性

清潔石英和陶瓷表面

半導體表面氧化與制備

可選設備：

裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風機套件，無需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧，而鼓風機將增加排氣流量。

紫外光清洗的工作原理

紫外光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經過光清洗后的材料表面可以達到“原子清潔度”。更詳盡的講：UV光源發射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當這些光子作用到被清洗物體表面時,由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力,并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關系。一般STN-LCD制作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(2537nm)以上。而彩STN-LCD及彩色濾光片制作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量600mj/cm2(2537nm)。

紫外光清洗的適用范圍

液晶顯示器件、觸摸屏、半導體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料

紫外光清洗的主要材料：

ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等

使用紫外線清洗時要注意以下幾個方面：

1. 污垢中的無極成分或處理后的灰分會殘留在物體表面，因此需要采用相應的辦法進一步清除，如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。

2.處理時，當清洗對象表面與照射光源距離稍遠時，產生的臭氧會自動分解失去作用，一定要注意清洗表面與光源的距離，也就是注意平臺或傳送帶上工件的高度或厚度。

3.這種處理方法要求紫外線能透過清洗對象表面，對有立體結構的清洗對象不太適合，只能清洗表面結構的物體。

4.由于需防止臭氧擴散對人體造成損害，需要在封閉裝置中進行清洗。

5.由于臭氧是通過氧化反應去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。